返回Google圖書搜尋

Mehanizem razogljičenja zlitine Fe-Si-Al, legirane z antimonom

其他書名	magistrsko delo
出版	Naravoslovnotehniška fakulteta, 1998
URL	http://books.google.com.hk/books?id=uOZAtwAACAAJ&hl=&source=gbs_api

註釋Raziskali smo mehanizem razogličenja zlitine Fe-Si-Al v obliki hladno valjane pločevine, ki smo jo legirali z 0,048 mas.% Sb. Razogljičenje je potekalo v atmosferi vlažnega vodika pri temperaturi 840°C. Hitrost razogljičenja določata stanje površine in razmerje parcialnih tlakov vodne pare in vodika v plinski mešanici. Vodna para v plinski mešanici $H_2$-$H_2O$ je nosilec kisika, ki oksidira ogljik in razogljiči jeklo. Kinetiko razogljičenja zlitine Fe-Si-Al smo določili za proces, ki poteka pri temperaturi 840°C v plinski mešanici $H_2$-$H_2O$, z razmerjem parcialnih tlakov vodne pare in vodika od 0,03 do 0,3. Za določitev kinetike razogljičenja smo uporabili, na tem področju raziskav novo eksperimentalno metodo, termogravimetrično analizo. Le-ta je pokazala, darazogljičenje spremlja tudi oksidacija površine. Z metalografsko in AES-analizo ter metodo rentgenske difraktometrije smo ugotovili, da oksidacija ogljika v vzorcih zlitine Fe-Si-Al spremlja oksidacija železa in legirnih elementov na površini jeklenih površin. Na nastanek oksidne plasti vplivajo predvsem legirni elementi: aluminij, silicij in mangan, ki iamjo večjo afiniteto do kisika kot železo. Oksidna plast na površini jekel z antimonom je bila neporozna in bolj kompaktna kot v zlitinah brez antimona, po kristalnih mejah pa smo opazili področja notranje oksidacije. V primerjavi z zlitinami brez antimona je razogljičenje visokoogljičnih zlitin, ki so vsebovale 0,048 mas.% Sb, potekalo počasneje in vzorci jekel z antimonom so se razogljičili le ob površini. Razogljičenje nizkoogljičnih zlitin Fe-Si-Al z antimonom in primerjalne zlitine poteka pri temperaturi 840°C približno enako hitro. Med žarjenjem v plinski mešanici $H_2$-$H_2O$, ki ima razmerje p($H_2O$)/p($H_2$) = 0,03, segregacija antimona na površino jekla ovira disociacijsko reakcijo vodne pare in zmanjšuje oksidacijo na površini.