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Chemische Ätzverhalten ionenimplantierter SiO 2 - und Si 3 N 4 -Schichten auf Silizium

Ekkehard SennewaldBernhard Wiedemann

出版	1983
URL	http://books.google.com.hk/books?id=yTZKjwEACAAJ&hl=&source=gbs_api